钛靶材

靶材的种类:钛圆靶、钛管靶、钛靶板 靶材的主要性能要求: 纯度 纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发...
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       靶材的种类:钛圆靶、钛管靶、钛靶板

       靶材的主要性能要求:

       纯度

       纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6, 8“发展到12, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%99.9999%

       杂质含量

       靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。不同用途的靶材对不同杂质含量的要求也不同。例如,半导体工业用的纯铝及铝合金靶材,对碱金属含量和放射性元素含量都有特殊要求。

       密度

       为了减少靶材固体中的气孔,提高溅射薄膜的性能,通常要求靶材具有较高的密度。靶材的密度不仅影响溅射速率,还影响着薄膜的电学和光学性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。此外,提高靶材的密度和强度使靶材能更好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。

       晶粒尺寸及晶粒尺寸分布

       通常靶材为多晶结构,晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材,晶粒细小的靶的溅射速率比晶粒粗大的靶的溅射速率快;而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分布更均匀。

       钛靶材的用途:

       钛作为原料可以通过几种方法制成钛溅射靶材,它们广泛用于电子,信息工业,家庭装饰,汽车玻璃制造等高科技领域。在这些行业中,钛靶材主要用于镀膜集成电路,平板等部件的表面面板显示器,或作为装饰及玻璃镀膜等。